量子阱和勢壘有效質量(twlm。定義在Lumerical TWLM激光模型中的QW_eff_mass和TWLM.qb_eff_mass) ? 它們只是這些材料中的電子有效質量嗎?

這些有效質量數用作熱離子泄漏模型中的參數，以計算屏障上的載流子逃逸率。除了有效質量之外，對熱離子發射（即逃逸率）很重要的另一個參數是勢壘高度。逃逸率可以在量子阱（QW）和SCH勢壘中定義?？偺右萋蕿椋?br />1/tau_escape=1/tau_escape_electron+ 1/tau_escape_hole
由于通常一個項占主導地位，用戶可以定義電子或空穴的有效質量和勢壘高度，具體取決于哪個泄漏更占主導地位。對于QW逃逸率，使用的參數是QW有效質量和勢壘高度，而對于SCH逃逸，重要參數是量子勢壘（QB）有效質量和SCH勢壘高度。
此外，一旦您根據上述解釋決定是需要電子還是空穴有效質量，您就可以使用我們的電氣材料數據庫，創建III-V族合金材料作為半導體，并在對象樹中的材料屬性中檢查有效質量值?；蛘?，您可以使用自己的有效質量值來計算量子阱和勢壘中的給定材料。